ASML公司正积极投资研发下一代EUV光刻机

2019-07-15

  近日,有韩媒报道称,全球最著名的光刻机公司ASML公司正积极投资研发下一代EUV光刻机,这标志着,半导体制造工艺又或要升级一个新台阶,CPU芯片、手机芯片等不久后又要升级换代了?

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  消息显示,在第二代EUV光刻机真正出现时,台积电、三星已经量产3nm工艺,甚至开始进军2nm、1nm产品阶段了。

  光刻机对于半导体生产来说可谓是至关重要的设备,在以前光刻机甚至是佳能和尼康的重要产品之一,对你没看错,就是你知道的那个佳能和尼康。只不过随着科技的进步、技术的革新,就目前而言,整个光刻机领域的高端产品全部被ASML垄断。

  EUV光刻机未来还能怎么发展?2016年ASML公司宣布斥资20亿美元收购德国蔡司公司25%的股份,并投资数亿美元合作研发新一代透镜,而ASML这么大手笔投资光学镜头公司就是为了研发新一代EUV光刻机。

  2018年10月,ASML公司又与IMEC比利时微电子中心合作研发新一代EUV光刻机,目标是将NA从0.33提升到0.5以上,而从光刻机的分辨率公式——光刻机分辨率=k1*λ/NA中可以看出,NA数字越大,光刻机分辨率越高,所以提高NA数值孔径是下一代EUV光刻机的关键。

  半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,成本能占到整个生产过程的1/3,光刻机也因此成为最重要的半导体制造装备,没有之一。目前最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的EUV光刻机,每台售价超过1亿美元,而且供不应求。

  日前韩媒报道称,ASML公司正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有的光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA(高数值孔径)透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。

  当时,ASML负责人在公司财报会上透露称,2019年要出货30台EUV设备,这对于正在积极发展芯片产业的中国市场来说是个很好的消息。


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